Thetametrisis膜厚測(cè)量?jī)x

簡(jiǎn)要描述：Thetametrisis膜厚測(cè)量?jī)xFR-pRo是一個(gè)模塊化和可擴(kuò)展平臺(tái)的光學(xué)測(cè)量設(shè)備，用于表征厚度范圍為1nm-1mm 的涂層。

產(chǎn)品型號(hào)：FR-pRo
廠商性質(zhì)：代理商
產(chǎn)品資料：查看pdf文檔
更新時(shí)間：2024-11-26
訪(fǎng) 問(wèn) 量： 12706

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詳細(xì)介紹

膜厚測(cè)量?jī)x是一種用于測(cè)量薄膜、涂層或其它薄層材料厚度的儀器。膜厚測(cè)量?jī)x通常采用不同的工作原理和技術(shù)來(lái)實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確的厚度測(cè)量，常見(jiàn)的膜厚測(cè)量?jī)x包括：

1、X射線(xiàn)熒光測(cè)厚儀：利用X射線(xiàn)照射樣品表面，通過(guò)測(cè)量熒光光譜來(lái)確定薄膜厚度。

2、聲表面波測(cè)量?jī)x：利用超聲波在薄膜表面?zhèn)鞑サ奶匦詠?lái)測(cè)量薄膜厚度。

3、光學(xué)干涉儀：利用光學(xué)干涉原理測(cè)量薄膜的厚度，常見(jiàn)的有白光干涉儀和激光干涉儀。

4、磁感應(yīng)測(cè)厚儀：通過(guò)測(cè)量磁感應(yīng)信號(hào)來(lái)確定薄膜或涂層的厚度。

膜厚測(cè)量?jī)x在工業(yè)生產(chǎn)、材料研發(fā)、電子設(shè)備制造等領(lǐng)域廣泛應(yīng)用，可幫助用戶(hù)準(zhǔn)確測(cè)量和控制薄膜的厚度，確保產(chǎn)品質(zhì)量和性能。使用膜厚測(cè)量?jī)x時(shí)，需要根據(jù)實(shí)際情況選擇適合的儀器和測(cè)量方法，并注意儀器的操作規(guī)范和安全注意事項(xiàng)。

Thetametrisis膜厚測(cè)量?jī)xFR-pRo概述：

FR-pRo膜厚儀: 按需搭建的薄膜特性表征工具。

FR-pRo膜厚儀是一個(gè)模塊化和可擴(kuò)展平臺(tái)的光學(xué)測(cè)量設(shè)備，用于表征厚度范圍為1nm-1mm 的涂層。

FR-pRo膜厚儀是為客戶(hù)量身定制的，并廣泛應(yīng)用于各種不同的應(yīng)用。

比如：

吸收率/透射率/反射率測(cè)量，薄膜特性在溫度和環(huán)境控制下甚至在液體環(huán)境下的表征等等…

Thetametrisis膜厚測(cè)量?jī)xFR-pRo應(yīng)用：

1、大學(xué)&研究實(shí)驗(yàn)室

2、半導(dǎo)體行業(yè)

3、高分子聚合物&阻抗表征

4、電介質(zhì)特性表征

5、生物醫(yī)學(xué)

6、硬涂層，陽(yáng)極氧化，金屬零件加工

7、光學(xué)鍍膜

8、非金屬薄膜等等…

FR-pRo膜厚儀可由用戶(hù)按需選擇裝配模塊，核心部件包括光源，光譜儀（適用于 200nm-2500nm 內(nèi)的任何光譜系統(tǒng)）和控制單元，電子通訊模塊。

此外，還有各種各種配件，比如:

1.用于測(cè)量吸收率/透射率和化學(xué)濃度的薄膜/試管架；

2.用于表征涂層特性的薄膜厚度工具；

3.用于控制溫度或液體環(huán)境下測(cè)量的加熱裝置或液體試劑盒；

4.漫反射和全反射積分球。

通過(guò)不同模塊組合，蕞終的配置可以滿(mǎn)足任何終端用戶(hù)的需求。

Specificatins 規(guī)格：

Model	UV/Vis	UV/NIR -EXT	UV/NIR-HR	D UV/NIR	VIS/NIR	D Vis/NIR	NIR
光譜范圍 (nm)	200 – 850	200 –1020	200-1100	200 – 1700	370 –1020	370 – 1700	900 – 1700
像素	3648	3648	3648	3648 & 512	3648	3648 & 512	512
厚度范圍	1nm – 80um	3nm – 80um	1nm – 120um	1nm – 250um	12nm – 100um	12nm – 250um	50nm – 250um
測(cè)量n*k 蕞小范圍	50nm	50nm	50nm	50nm	100nm	100nm	500nm
準(zhǔn)確度,*	1nm or 0.2%	1nm or 0.2%	1nm or 0.2%	1nm or 0.2%	1nm or 0.2%	2nm or 0.2%	3nm or 0.4%
精度,*	0.02nm	0.02nm	0.02nm	0.02nm	0.02nm	0.02nm	0.1nm
穩(wěn)定性,*	0.05nm	0.05nm	0.05nm	0.05nm	0.05nm	0.05nm	0.15nm
光源	氘燈 & 鎢鹵素?zé)?內(nèi)置)				鎢鹵素?zé)?內(nèi)置)
光斑 (直徑)			350um (更小光斑可根據(jù)要求選配)
材料數(shù)據(jù)庫(kù)				> 600 種不同材料

Accessries 配件：

電腦	19 英寸屏幕的筆記本電腦/觸摸屏電腦
聚焦模塊	光學(xué)聚焦模塊安裝在反射探頭上，光斑尺寸＜100um
薄膜/比色皿容器	在標(biāo)準(zhǔn)器皿中對(duì)薄膜或液體的透射率測(cè)量
接觸式探頭	用于涂層厚度測(cè)量和光學(xué)測(cè)量的配件，適用于彎曲表面和曲面樣品
顯微鏡	用于高橫向分辨率的反射率及厚度顯微測(cè)量
Scanner (motorized)	帶有圓晶卡盤(pán)的Polar（R-Θ）或 Cartesian（X-Y）自動(dòng)化樣品臺(tái)可選，Polar（R-Θ）樣品臺(tái)支持反射率測(cè)量，Cartesian（X-Y）樣品臺(tái)支持反射率和透射率測(cè)量
積分球	用于表征涂層和表面的鏡面反射和漫反射
手動(dòng) X-Y 樣品臺(tái)	測(cè)量面積為 100mmx100mm 或 200mmx200mm 的x - y 手動(dòng)平臺(tái)
加熱模塊	嵌入FR-tool 中，范圍由室溫~200oC，通過(guò)FR-Monitor 運(yùn)行可編程溫控器(0.1 oC 精度).
液體模塊	聚四氟乙烯容器，用于通過(guò)石英光學(xué)窗口測(cè)量在液體中的樣品。樣品夾具，用于將樣品插入可處理 30mmx30mm 樣品的液體中
流通池	液體中吸光率、微量熒光測(cè)量