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【EVG新品發(fā)布】NT系列大幅度提高光刻對準和測試精度

更新時間:2023-02-20  |  點擊率:2044

在微電子、納米、半導體領域為晶片接合和光刻技術提供設備技術方案的供應商EVG近期推出了NT系列光刻機和對準測試機,這是一個全新的、已經(jīng)被生產(chǎn)廠家驗證過的新型光刻曝光機以及晶圓對晶圓(W2W)接合曝光和測試系統(tǒng),可滿足用戶對更高光刻精度的需求。業(yè)內(nèi)向更小結(jié)構和更密集封裝生產(chǎn)轉(zhuǎn)型的趨勢帶來了眾多的新挑戰(zhàn),如對更高精度的要求,因為這將嚴重影響設備的偏差律,并最終影響生產(chǎn)效率和增加成本。新的EVG NT系列光刻機對準機可極大提高對準精度-范圍從1微米至0.1微米-從而為生產(chǎn)廠家在先進微電子、化合物半導體、硅基電功率、三維集成電路和納米等幾乎所有相關產(chǎn)業(yè)提供了解決方案。DI一批NT系統(tǒng)已經(jīng)在客戶端安裝測試完畢,并通過了驗收。

     “生產(chǎn)工藝中不精確的光刻對準會影響到結(jié)構的完整性、最終影響到設備的產(chǎn)量和增加生產(chǎn)成本,”EVG首xi技術官Paul Linder指出,在生產(chǎn)工藝過程中,有許多條件會影響到光刻對準的精度,包括了溫度和基片結(jié)構,還有小結(jié)構多層次更緊密的封裝趨勢也會增加這一問題的難度。為保證我們的用戶有完整解決這些問題的方案,我們推出了全新的EVG NT系列。同時,我們非常高興地告訴用戶們,DI一臺設備已經(jīng)在生產(chǎn)中得到了非常好的驗證。技術指標都達到了要求。這也符合我們公司的三“i”基本路線,即發(fā)明、創(chuàng)新與提供解決方案,我們會繼續(xù)根據(jù)生產(chǎn)的需求研發(fā)新一代的設備方案。

     EVG-NT新一代的光刻和測試系統(tǒng)極大地增加了對準精度,該系列包括了光刻機、W2W接合曝光和對準檢測設備。

     光刻機EVG620 NTEVG6200 NT

     EVG620 NTEVG6200 NT光刻機-分別可以處理從小于5mm150mm和從3英寸到200mm襯底-擁有一系列ZUIXIANJIN的功能和特點,包括一個花崗巖基座、主動式隔振裝置和線性馬達,以達到更高的精度和生產(chǎn)量要求。擁有了這些建立在EVG最靈活全面的對準平臺上的新系統(tǒng),生產(chǎn)商只需進行簡單的一對一轉(zhuǎn)換,將手動型號轉(zhuǎn)換成全自動機臺,就能很容易地實現(xiàn)從研發(fā)到量產(chǎn)之間的過渡。這種輕松量產(chǎn)的方式和對準精度的提高(低至0.1μm)可以幫助客戶更好地控制擁有成本(CoO)。

     晶圓對晶圓接合光刻機SmartView NT

     多重晶圓堆棧和接合的流程需要小于1μm的對準精度。為了應對這一挑戰(zhàn),SmartViewNT利用了一種革命性的高精度對準臺,這種對準臺使用上下兩面對準的顯微鏡來保證ZUI GAO程度的精確性。這種全面的接合機也可以處理所有種類的對準,包括面對面式、背面式和紅外透明式。除去后續(xù)步驟,如產(chǎn)生背面對準鍵和雙面磨光,W2W對準的最初結(jié)果已經(jīng)表明了其小于0.3μm面對面式的對準精度。這些都使你能降低擁有成本。SmartViewNT與前幾代產(chǎn)品相比,對準精度比SmartView、背面式、透明式對準分別提升了超過60%、300%和40%,使系統(tǒng)能有效地達到嚴酷的精度要求。

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     對準測試系統(tǒng)EVG40 NT

     EVG40 NT被設計用于對單、雙面結(jié)構晶圓和接合面進行高精度無損精確性測試。這種新系統(tǒng)克服了一般雙面顯微鏡系統(tǒng)和紅外系統(tǒng)必須依靠笨拙耗時的程序來校正光軸的限制。EVG40NT的高度靈活性體現(xiàn)在其能快速地在晶圓面上提供沒有數(shù)量限制的測試點。與上一代產(chǎn)品相比,NT系列的生產(chǎn)量提高到5個折層,可以每小時進行200300次測試。另外,整個過程十分可靠,結(jié)果顯示精度提高60%,測試精度達到小于0.2μm。這些結(jié)果都是具有99%以上的超高可重復性和高再現(xiàn)性的。
     EVG NT家族的所有系統(tǒng)都已經(jīng)在quan qiu ling xian的生產(chǎn)廠商安裝并通過了驗收測試。

 

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