光學膜厚儀是利用薄膜干涉光學原理,對薄膜進行厚度測量及分析。用從深紫外到近紅外可選配的寬光譜光源照射薄膜表面,探頭同位接收反射光線。光學膜厚儀根據(jù)反射回來的干涉光,用反復校準的算法快速反演計算出薄膜的厚度。測量范圍1nm-3mm,可同時完成多層膜厚的測試。對于100nm以上的薄膜,還可以測量n和k值。
應用領域:
半導體制造業(yè),光刻膠、氧化物、硅或其他半導體膜層的厚度測量;
生物醫(yī)學原件:聚合物/聚對二甲苯;生物膜/球囊壁厚度;植入藥物涂層;
微電子:光刻膠;硅膜;氮化鋁/氧化鋅薄膜濾鏡;
液晶顯示器:盒厚;聚酰亞胺;導電透明膜;
由于是光學測量,在測量時候無須擔心破壞樣品,讓用戶簡單快速地測量薄膜的厚度和光學常數(shù),通過對待測膜層的上下界面間反射光譜的分析,幾秒鐘內(nèi)就可測量結(jié)果。
1、非接觸式測量:光學膜厚儀采用的原理是通過光的反射原理對膜層厚度進行測量,屬于非接觸式測量方法,不會對樣品造成任何損傷,能夠保證樣品的完整性。
2、測量數(shù)據(jù)多樣:可以測得物體的膜厚度和n,k數(shù)據(jù),這是其它類型的膜厚儀所不具備的特點。
3、測量快速:光學膜厚儀的測量過程非??焖伲驗樵撛O備采用了先進的結(jié)構設計,能夠ji大程度的提升測量效率,相比于其他類型膜厚測量設備來說顯得非常輕巧方便。
4、適用范圍廣:光學膜厚儀的適用范圍非常廣泛,從普通家用到工廠的工業(yè)生產(chǎn),再到大學實驗室和科學研究所,都可以看到它的身影,由此可見它的使用范圍極其廣泛,能夠作業(yè)的場合也變得更加多樣化。